
集成技术中心举办半导体微纳结构器件工艺技术报告会
时间:2014-10-15集成技术中心为了更好地提供技术服务,2014年10月10日上午在半导体所学术会议中心举行了半导体微纳结构器件工艺技术报告会。会议由王晓东副主任主持。大约有80多名所内外用户参加了此次报告会。首先,潘岭峰老师对激光直写及制版技术做了介绍;然后,黄亚军老师对步进式(Stepper)光刻机的原理和应用做了细致的阐述;陈燕凌老师对光学光刻的关键工艺和相关的技术问题进行了详细的解释;韩伟华老师对电子束曝光技术在微纳电子与光子器件中的应用进行了概述;最后,刘媛媛老师对扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、椭偏仪、激光共聚焦显微镜、分光光度计和台阶仪等分析表征技术进行了介绍。期间,参会同学们积极参与提问与咨询。本次报告会不仅加强了中心与所内外用户的沟通与交流,而且也为新员工和学生快速了解和掌握工艺平台的相关技术提供了帮助。
		
		
		
		
		
		
		
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