为加强沟通与交流，更好地为各个课题组提供工艺技术服务，集成技术中心每年都举办多种形式的技术报告会，集中介绍半导体微纳加工中的关键设备及工艺。报告也作为新员工和学生入职培训内容的延伸，能帮助大家快速了解和掌握平台的相关技术。此次安排的内容主要包括光刻相关、电子束曝光及测试表征技术。

    时间：2014年10月10日（星期五） 上午9:00
    地点：半导体所学术会议中心
    日程：
    9:00-9:30 激光直写、步进光刻，报告人：潘岭峰、黄亚军
    9:30-10:00 光刻技术，报告人： 陈燕凌
    10:05-10:35 电子束曝光技术，报告人： 韩伟华
    10:35-11:05 SEM等测试表征技术，报告人： 刘媛媛
    11:05-11:30 交流讨论

欢迎各位老师及研究生积极参加交流!

另外，也欢迎加入我们的QQ用户群：118626075。

    集成技术中心

    2014-10-8