
集成技术中心设备开放通知
时间:2013-04-15
为提高服务质量和效率,增强对广大用户特别是学生的技能培养,集成技术中心从去年开始逐渐对用户开放重要工艺和测试设备,培训用户独立使用仪器设备;目前已开放的主要设备有电子束曝光、扫描电镜、光刻系统等,取得了较好的效果。鉴于此,中心决定继续扩大开放范围,本批开放的设备有:
牛津Ⅲ-Ⅴ族刻蚀设备(胡传贤老师,hucx@semi.ac.cn,82305147),
Plasma Therm 硅基材料刻蚀设备(李艳老师,liyan@semi.ac.cn,82305045),
Sentech 金属刻蚀设备(刘庆老师,liuqing@semi.ac.cn,82305147),
聚焦离子束FIB(陈雪老师,chenxun@semi.ac.cn,82305405),
Denton磁控溅射设备(王晓峰老师,wangxiaofeng@semi.ac.cn,82305403)
低温探针台(杨香老师,xyang@semi.ac.cn,82305403),
太阳能电池I-V/量子效率测试系统(刘雯老师,liuwen519@semi.ac.cn,82305403),
Agilent半导体参数测试仪(宁瑾老师,ningjin@semi.ac.cn,81304492)
请有相关工艺和测试需求的职工、学生即日起与相关设备负责人员联系。经培训考核合格后的人员即可自己完成相关工艺。
对于考核合格,独立熟练完成工艺和测试的用户,工艺费用较之前会有较大幅度降低,可减轻课题组负担。同时也希望考核合格的人员以认真负责的态度对待开放工艺设备,严格遵守中心的规章制度和设备操作守则,共同构建实验高效、设备稳定的良好环境。
另外,集成技术中心也将逐步开放其他具备条件的关键工艺设备,为广大用户提供更好的服务和更优惠的价格。最新信息请随时关注集成中心网站:http://sit.semi.ac.cn。
集成技术中心
2013-04 -15