由英国牛津仪器公司（Oxford Instruments, Plasma-technology）主办、中科院半导体研究所协办的“纳米尺度等离子体工艺”研讨会将于2013年5月14日在北京举行。会议内容包括原子层沉积（ALD）、MEMS深硅和纳米低温ICP刻蚀、III-V族ICP刻蚀、GaN/蓝宝石/AlGaInP刻蚀、离子束刻蚀与沉积、3D封装、HBLED制造等目前的热点领域。欢迎感兴趣的老师及研究生积极报名参加，注册免费。

所内联系人：沈清，电话：82305142，E-mail:shenqing@semi.ac.cn。会议地点另行通知。