
王德松
时间:2012-11-13
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实验师 |
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办公室 |
3号楼 308/310 室 |
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电话 |
(010)82304478/5147 |
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传真 |
(010)8230 5141 |
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电子邮件 |
dswang@semi.ac.cn |
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通讯地址 |
北京市海淀区清华东路甲35号 |
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个人简历
1998年8月至2005年12月 中科院半导体所国家工程研究技术中心 从事光学器件的前工艺制备工作,包括芯片清洗、电极制备、减薄磨抛、光学膜制备等。
2006年至今,中科院半导体所国家集成研究技术中心 从事电子束蒸发和光刻工艺工作
研究领域
微米和亚微米光学光刻工艺和电子束电极制备工艺
技术亮点
光学光刻,1微米条宽的波导线条。