2013年11月8日上午9:00，由集成中心组织的光刻技术专题报告会在学术会议中心举行。此次报告会目的是为了更好的发挥集成中心公共服务平台的作用，提升服务水平，加强与各个课题组之间的交流与合作，特别是针对新入所人员工艺技能的提升。

    报告会由集成中心副主任王晓东研究员主持，陈燕凌研究员首先对普通光学光刻进行了介绍，接着韩伟华研究员对电子束曝光技术及其相关应用进行了充分的介绍，最后潘岭峰老师和黄亚军老师就激光直写曝光技术和纳米压印技术进行了相关报告。期间，参会同学们积极参与提问与讨论，对光刻技术有了更进一步的了解；同时中心工艺人员也对学生用户的工艺问题有了更加清晰的认识，有助于提升中心的服务质量。所内外大约有105人参加了此次报告会。