2009年3月28日半导体所集成技术中心与Raith公司、汇德信公司在半导体所学术会议中心联合举办Raith电子束光刻设备用户会议。与会者70多人来自中科院半导体所、中科院物理所、国家纳米中心、北京大学、南京大学、中国科技大学、中山大学、上海技术物理所、江苏大学、华中科技大学等单位。Raith公司的工程师Andre Linden、Guido Piaszenski、Keith Mouldling博士做了设备研发进展和软件使用报告。会议由汇德信公司孙晓玉经理和半导体所韩伟华老师主持。集成技术中心杨富华主任作了开场报告，介绍了近几年以来集成技术中心的快速发展和技术成果。半导体研究所、中科院物理所和北京大学的专家和用户围绕利用电子束光刻设备制作纳米结构作了精彩的会议报告，促进了国内该领域的技术交流与发展。晚间举行了欢迎宴会。