晶面依赖的硅纳米结构在Raith Micrograph 2008评比中获奖
时间：2009-03-23集成技术中心利用电子束曝光技术和各项异性化学腐蚀技术制备的晶面依赖的硅纳米结构,在Raith Micrograph 2008 评比中获特殊技术图片奖(Special Art Award).详情请登陆：http://www.raith.com/
下一篇：集成技术中心获得三项冠名奖
版权所有 中国科学院半导体研究所 京ICP备05085259-11号 京公网安备110402500052
备案号： 京ICP备05085259号 京公网安备110402500052
半导体集成技术工程研究中心
/