2018年6月5日，应中科院半导体研究所集成技术工程研究中心邀请，许开东博士在3号楼320会议室做了精彩的报告，报告的题目是“逻辑器件、存储器10纳米及以下技术代的先导图形化”。

报告会讨论了目前工业界主流的先导图形化技术路线，包含基于浸润式光刻技术、超紫外光刻技术、以及自我排列式技术的图形化方案。同时针对光刻、刻蚀的循环，以及多次侧墙转移等多次曝光技术等做了详细的阐述。

集成中心和所内相关课题组三十余人参加了此次技术交流，针对各自课题中的科研难题同许开东博士进行了深入交流，取得了良好的效果。