集成技术中心作为半导体所公共技术服务中心，多年来一直为所内外科研人员提供单项和集成工艺技术服务，是一个完全开放的平台。中心始终坚持以支撑关键技术创新与集成为宗旨，在单项工艺技术和集成技术方面均取得了突破，对国家重大科研任务的完成起到了关键技术支撑作用，为科研项目的争取提供了设备和技术基础。

    为加强沟通与交流，更好地为各个课题组提供工艺技术服务，集成技术中心每年都会采取多种形式举办技术报告会，介绍新设备与工艺。报告也作为新员工和学生入职培训内容的延伸，能帮助大家快速了解和掌握平台的相关技术。本年度的报告将采取技术专题形式，集中介绍半导体微纳加工中的关键工艺及设备。此次安排的专题为光刻及相关技术。

    时间：2013年11月8日(星期五) 上午9:00

    地点：半导体所学术会议中心

    日程：

    9:00-9:10 主持人：王晓东

    9:10-9:40 光刻技术，报告人：陈燕凌

    9:40-10:10 电子束曝光技术，报告人：韩伟华

    10:10-10:40 直写曝光技术，报告人：潘岭峰

    10:40-11:10 纳米压印技术，报告人：黄亚军

    11:10-11:30交流讨论

    欢迎各位老师及研究生积极参加交流!

    集成技术中心

    2013-11-4