集成技术中心于9月19日（星期三）在所学术会议中心举办了ICP刻蚀技术研讨会，研讨会由集成中心主任杨富华研究员主持，由美国Plasma Therm公司市场部主任David Lishan博士主讲。

Plasma-Therm公司是一家领先的等离子体刻蚀及淀积设备供应商。本次研讨会主要阐述面向半导体，MEMS及纳米器件结构应用的刻蚀及淀积技术，涵盖了复合半导体、绝缘体、深硅刻蚀技术和PECVD。

本次研讨会对理解刻蚀技术原理及提升国内刻蚀技术水平起到了良好的推动作用。所内外共有137人注册参加了本次研讨会。

 

集成技术中心

2012-9-20