2011年5月16日下午1:30分，集成技术中心在所学术沙龙室举办半导体工艺技术研讨会，研讨会由集成技术中心主任杨富华研究员主持，集成技术中心职工陈燕凌研究员，韩伟华研究员，王晓东研究员，樊中朝副研究员，李艳副研究员，王晓峰副研究员，李建明副研究员，赵永梅博士分别在会上作了关于光刻、电子束曝光，离子束溅射，刻蚀，PECVD，金属蒸发，离子注入等单项工艺技术以及半导体光电器件集成技术的成功和失败案例分析的报告。